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    化工(gong)水處理設備-EDI設備是電滲(shen)析(xi)技術與(yu)離(li)子交(jiao)(jiao)換(huan)(huan)技術的(de)(de)結合，通過(guo)陰(yin)離(li)子和(he)陽(yang)離(li)子交(jiao)(jiao)換(huan)(huan)膜的(de)(de)選擇性滲(shen)透與(yu)離(li)子交(jiao)(jiao)換(huan)(huan)樹脂(zhi)的(de)(de)交(jiao)(jiao)換(huan)(huan)作用(yong)。在直(zhi)流電場的(de)(de)作用(yong)下(xia)，實(shi)現(xian)離(li)子遷(qian)移，實(shi)現(xian)水的(de)(de)深度除(chu)鹽。同時，水分離(li)產生的(de)(de)氫(qing)離(li)子和(he)氫(qing)氧化物離(li)子交(jiao)(jiao)換(huan)(huan)樹脂(zhi)。因此，無需酸堿化學(xue)再生即可連續(xu)生產純(chun)水。

    化(hua)工水處(chu)理設備-EDI設備工作原理：

    1.RO產生的(de)水在進入EDI模塊后均(jun)勻地分(fen)布(bu)在淡水室中。

    2.在淡(dan)水室中，未從(cong)RO膜(mo)中去除的微(wei)量離子(zi)(zi)被離子(zi)(zi)交(jiao)換樹脂吸附在RO膜(mo)表面。

    3.在EDI模塊兩端(duan)的電極上加(jia)直流電，驅(qu)動淡水(shui)室中(zhong)(zhong)的陰(yin)離子和陽離子遷(qian)移到濃(nong)縮水(shui)室中(zhong)(zhong)的相應電極以產生高純水(shui)。

    4.在電(dian)場的作(zuo)用下，水分(fen)子(zi)大量電(dian)離成H+和OH，離子(zi)交換樹脂不斷再(zai)生。

    EDI進水條件(jian)：

    水(shui)源：反滲透RO產水(shui)

    電導率：≤20μS/cm

    電導率：2-10μS/cm

    電導率：≤50Μs/cm

    PH值：6-8

    溫度：5℃-38℃

    進水壓力：0.2-0.6MPa

    硬度：小于0.5ppm(以CaCO3計)

    硅：小于0.5ppm(SiO2計(ji))